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產業動態 交通大學7月11日開辦[先進積體電路清洗製程技術]課程
國立交通大學電子系人才培訓中心 本新聞稿發佈於2007/07/04,由發布之企業承擔內容之立場與責任,與本站無關

本課程先對IC製程之清洗製程問題與挑戰做介紹,講解基本IC清洗製程物理及化學原理;接著,從IC前段清洗製程開始講述各重要製程挑戰及解法;然後,探討去光阻製程於嚴苛的奈米元件中面對新的上下材料與需求所對應的技術挑戰與解法;進而,介紹IC製程中各種特殊清洗製程技術與應用,接著,深入淺出介紹各種清洗製程的量測技術;最後,歸納總結清洗製程挑戰與為來挑戰與方向。

 
■ 發布/輪播新聞稿 新聞稿直達14萬電子報訂戶刊登新聞稿:按此
 
適合大專以上理工科系之畢業生、具有基礎物理、普通化學基礎、欲進入或從事半導體製程產業之人士參加。

開課時間:2007年7月11日, 7月25日, 週三 18:30~21:30,共計6小時。
開課大綱:
1. Fundamental of Wafer Cleaning -- 90min
2. FEOL Wafer Cleaning: Challenges and Technologies-- 90min
3. FEOL & BEOL PR Stripping: Challenges and Technologies-- 60min
4. Non-traditional Cleaning Process Technologies-- 60min
5. Wafer cleaning Characterization-- 40min
6. Conclusion and Future Direction-- 20min
開課講員:
林啟發 處長
現職:FSI International製程技術處長
專長:積體電路技術:晶圓清洗潔淨技術、CMP技術、薄膜技術、BEOL Integration,著有期刊及會議論文40餘篇,取得中、美、台專利各8、13、17件
經歷:
華邦電子薄膜製程及技術開發 9年
尚達積體電路製程模組及行銷 3年
美商FSI International 製程技術4年

------------------------報名表-------------------------
欲報名者請填報名表傳真至(03)5711992 或Email至weihsinmei@mail.nctu.edu.tw 或網路報名請至http://submic.ee.nctu.edu.tw首頁之[開課報名]處報名或直接點選每門課之「我要報名」進行報名。

課程名稱:先進積體電路清洗製程技術
開課時間:2007年7月11日, 7月25日 週三 18:30~21:30,共計6小時。
中文姓名:
英文姓名:
出生日期:民國 年 月 日
*帳號(僅提供報名系統用必填)(請填使用之email):
*密碼(僅提供報名系統用必填)(請以英文與數字,不超過10字元):
公司名稱:
部門:
職稱:
公司地址(含郵遞區號):
公司電話:
住宅或行動電話:
Email : (必填)
訓練負責人/部門/連絡電話/Email:(公司付費者必填)
最高學歷:
(1)請勾選最高學位 □博士 □碩士 □大學 □專科 □其他
(2)畢業學校名稱/科系名稱:

嬓費方式:請勾選□郵寄匯支票 □至培訓中心繳費 □上課當天現場繳費

繳費收據抬頭:(必填)

備註:
匯支票抬頭:「國立交通大學」
地址:新竹市300大學路1001號 工程四館312A室 電子系人才培訓中心 魏小姐
~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~

- 新聞稿有效日期,至2007/07/11為止


聯絡人 :陳秋雲
聯絡電話:03-5731745
電子郵件:patty@faculty.nctu.edu.tw

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